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光刻機(jī)的品牌
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科匯華晟

時(shí)間 : 2025-09-09 09:44 瀏覽量 : 2

光刻機(jī)(Lithography Machine)是半導(dǎo)體制造的核心設(shè)備,用于將電路圖形轉(zhuǎn)移到硅片(wafer)上。它結(jié)合了光學(xué)、機(jī)械、材料和控制技術(shù),被譽(yù)為“工業(yè)皇冠上的明珠”。


一、荷蘭 ASML —— 全球光刻機(jī)巨頭

公司背景

總部位于荷蘭,成立于 1984 年,是全球光刻機(jī)市場(chǎng)的絕對(duì)領(lǐng)導(dǎo)者。

占據(jù)全球市場(chǎng)份額 80% 以上,尤其在高端光刻機(jī)領(lǐng)域幾乎沒(méi)有競(jìng)爭(zhēng)對(duì)手。


核心技術(shù)與產(chǎn)品

DUV 光刻機(jī):ArF 浸沒(méi)式光刻機(jī)(193 nm 光源),適用于 7 nm 及以上制程。

EUV 光刻機(jī):極紫外光刻機(jī)(13.5 nm 光源),是目前唯一能夠大規(guī)模量產(chǎn) 5 nm、3 nm 先進(jìn)制程的設(shè)備。

代表機(jī)型:TWINSCAN NXT 系列(DUV)、NXE 系列(EUV)。


市場(chǎng)地位

臺(tái)積電(TSMC)、三星(Samsung)、英特爾(Intel)等先進(jìn)晶圓廠均依賴(lài) ASML 的 EUV 設(shè)備。

其光刻機(jī)售價(jià)極高,一臺(tái) EUV 光刻機(jī)價(jià)格超過(guò) 1.5 億美元。


二、日本品牌 —— 傳統(tǒng)勁旅

日本曾在光刻機(jī)市場(chǎng)上長(zhǎng)期占據(jù)領(lǐng)先地位,尤其在 20 世紀(jì) 80–90 年代。雖然在 EUV 時(shí)代被 ASML 超越,但在中低端市場(chǎng)仍有重要影響力。


Nikon(尼康)

優(yōu)勢(shì):

以步進(jìn)式光刻機(jī)(Stepper)和投影式光刻機(jī)起家,技術(shù)積累深厚。

在 90 年代曾是全球光刻機(jī)市場(chǎng)第一。


現(xiàn)狀:

目前主要生產(chǎn) KrF(248 nm)、ArF(193 nm)等 DUV 光刻機(jī)。

在面板光刻、MEMS 制造、功率半導(dǎo)體等領(lǐng)域仍有市場(chǎng)。

局限:在 EUV 技術(shù)路線落后,逐漸退出先進(jìn)邏輯芯片制造市場(chǎng)競(jìng)爭(zhēng)。


Canon(佳能)

優(yōu)勢(shì):

以接觸式和投影式光刻機(jī)起步,擅長(zhǎng)中小尺寸晶圓和專(zhuān)用工藝。

在光學(xué)設(shè)計(jì)和影像技術(shù)方面有獨(dú)特優(yōu)勢(shì)。


現(xiàn)狀:

主力產(chǎn)品為 i-line(365 nm)、KrF 光刻機(jī),應(yīng)用在封裝、LED、MEMS 等領(lǐng)域。

局限:缺乏先進(jìn)制程能力,定位偏向中低端市場(chǎng)。


三、其他地區(qū)品牌

美國(guó)

曾經(jīng)有 GCA、Perkin-Elmer 等公司,但在 90 年代逐漸退出。

目前美國(guó)企業(yè)更多在光刻機(jī)關(guān)鍵零部件領(lǐng)域發(fā)揮作用,如 Cymer(光源)、KLA(檢測(cè))等。


韓國(guó)

三星、SK 海力士雖為光刻機(jī)主要用戶(hù),但并未形成整機(jī)品牌,主要集中在材料和零部件供應(yīng)。


歐洲其他國(guó)家

除 ASML 外,部分企業(yè)參與光刻機(jī)關(guān)鍵零部件,如德國(guó)蔡司(Carl Zeiss,提供光學(xué)系統(tǒng)),是 ASML 的重要合作伙伴。


四、品牌格局與競(jìng)爭(zhēng)趨勢(shì)

ASML 一家獨(dú)大

在 EUV 時(shí)代,ASML 是唯一能量產(chǎn)的供應(yīng)商,形成事實(shí)壟斷。


日本品牌穩(wěn)守特定市場(chǎng)

Nikon 和 Canon 在先進(jìn)制程缺位,但在封裝、功率半導(dǎo)體、顯示面板等領(lǐng)域仍有強(qiáng)大生命力。


合作與依賴(lài)

光刻機(jī)是全球化產(chǎn)業(yè)鏈的產(chǎn)物:ASML 需要美國(guó)光源、德國(guó)光學(xué)、日本材料的支持。

未來(lái)發(fā)展可能會(huì)受?chē)?guó)際貿(mào)易與技術(shù)管制的影響。


五、總結(jié)

光刻機(jī)品牌格局可以概括為:

ASML —— 高端市場(chǎng)的絕對(duì)霸主,獨(dú)占 EUV 光刻機(jī)。

Nikon、Canon —— 日本雙雄,在中低端及特定工藝市場(chǎng)占有一席之地。

其他企業(yè) —— 更多集中在零部件供應(yīng)和歷史遺留品牌。

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